
Описание продукта Панель распределения газов высокой чистоты (VMP, Valve Manifold Panel) является центральным распределительным узлом систем подачи специальных и высокочистых газов. Она специально разработана для применения в полупроводниковой промышленности, лабораториях, при работе с пре...
Панель распределения газов высокой чистоты (VMP, Valve Manifold Panel) является центральным распределительным узлом систем подачи специальных и высокочистых газов. Она специально разработана для применения в полупроводниковой промышленности, лабораториях, при работе с прецизионным оборудованием и других подобных областях и предназначена для понижения давления и стабилизации давления в источниках газа высокого давления с последующим распределением по нескольким точкам потребления, являясь ключевым оборудованием, обеспечивающим стабильную подачу газов высокой чистоты.
Устройство основано на интегрированных протоках из нержавеющей стали и представляет собой модульную конструкцию, объединяющую редукционные клапаны высокой чистоты, мембранные клапаны, фильтры, датчики давления и компоненты для безопасного сброса давления. Оно отличается компактной конструкцией без мертвых зон и подходит для подачи инертных газов сверхвысокой чистоты, таких как азот, аргон и гелий. Внутренние стенки каналов подвергаются электрохимической полировке, что обеспечивает степень чистоты до уровня EP, исключает выделение примесей и эффективно предотвращает загрязнение газа и перекрестные помехи.
Панель поддерживает одно- или многоканальный выход, количество ответвлений можно гибко настраивать, что обеспечивает единое управление и распределение источников газа. Встроенные высокоточные манометры и датчики давления позволяют в режиме реального времени контролировать давление на входе и выходе, а в сочетании с системой мониторинга на базе Интернета вещей обеспечивают удаленный сбор данных и оповещение о нештатных ситуациях. Все клапаны и соединители имеют герметичную конструкцию и прошли проверку на герметичность с помощью гелия, что гарантирует отсутствие утечек в течение всего срока эксплуатации.
Данное оборудование позволяет настраивать спецификации разъемов и способы монтажа в соответствии с условиями эксплуатации на объекте, что делает его пригодным для использования в различных условиях: в лабораториях, чистых помещениях, газобаллонных помещениях и т. д. Работая в комплексе с коллекторами, распределительными шкафами и системами трубопроводов высокой чистоты, оно обеспечивает стабильную подачу чистого технологического газа с точным давлением для электронных микроскопов, аналитического оборудования, оборудования для производства полупроводников и т. д., являясь незаменимым ключевым компонентом современных систем подачи газа высокой чистоты.